超透镜线宽技术规格

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江苏优众微纳半导体科技有限公司

线宽加工能力：纳米级精度加工，支持5nm制程

加工技术：纳米压印技术结合原子层刻蚀（ALE）

侧壁形态：垂直矩形，无底切损伤

结构精度：微米至纳米级别超精密结构

工艺稳定性：基于成熟半导体制程工艺

加工环境：20,000平米Fab工厂，固定资产投入近5亿元

超透镜（Metalens）作为新型集成化光学元器件，采用微纳结构设计实现波前调制功能。产品通过精确设计的曲率参数与抗反射涂层，在微米级尺度内实现传统透镜的聚焦功能。

结构组成：

加工工艺流程：
涵盖湿法清洗、光刻、纳米压印、镀膜、化学机械抛光（CMP）、刻蚀等全流程工艺。原子层刻蚀技术实现逐层剥离，确保侧壁垂直度与结构完整性。

波前调制：通过微纳结构阵列实现光束聚焦、准直和整形

高透过率：精密设计的抗反射涂层，降低光学损耗

小型化设计：突破传统光学元件体积限制，支持集成化应用

偏振控制：结合线栅偏振片等配套元件，实现偏振态调控

应用方向：

标准规格：

定制化服务：

交付模式：

研发团队：由2位""、6名博士、2名硕士组成，设有清华大学博士研究生实习基地

工艺：

资质荣誉：高新技术企业、创新型中小企业、2025年潜在独角兽企业、市级企业工程技术研究中心

应用案例：
已向光学行业客户交付高透过率聚焦方案，通过精确设计曲率与抗反射涂层，实现微透镜生产与应用落地。

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